Персона:
Писарев, Александр Александрович

Profile Picture
Email Address
Birth Date
Научные группы
Логотип проекта
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Статус
Фамилия
Писарев
Имя
Александр Александрович
Имя

Фильтры

20241
1
1
Сброс фильтров

Настройки

Автор: Крат, Степан Андреевич × Тема: вольфрам ×

Результаты поиска

Теперь показываю 1 - 1 из 1
  • Уменьшенное изображение
    Публикация
    Открытый доступ
    Сравнение удержания дейтерия в вольфрамовых пленках различной толщины
    (2024) Крат, С. А.; Пришвицын, А. С.; Сорокин, И. А.; Фефелова, Е. А.; Гаспарян, Ю. М.; Писарев, А. А.; Писарев, Александр Александрович; Гаспарян, Юрий Микаэлович; Пришвицын, Александр Сергеевич; Крат, Степан Андреевич; Сорокин, Иван Александрович
    Проведено сравнительное исследование содержание дейтерия в со-осажденных из плазмы магнетронного разряда на молибденовые подложки вольфрам-дейтериевых слоях толщиной 50, 250 и 750 нм. Измерения проводились методом in vacuo термодесорбционной спектроскопии без контакта с атмосферой. Проведено моделирование экспериментальных данных в коде ТМАР7, получены концентрации и энергии ловушек, при которых достигается наилучшее согласие с экспериментом. Содержание дейтерия в пленках, осажденных при температуре ~100°С, составило 3–5 ат. %. Показано, что толщина пленок не оказывает существенного влияния на характеристики центров захвата удержания дейтерия, хотя вид спектров для наиболее толстых пленок несколько отличается.